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随着科技的日新月异,半导体技术作为推动现代电子工业发展的核心引擎,正不断攀登新的高峰。在此过程中,第三代半导体材料凭借其出色的性能和广泛的应用前景,已成为科技界与产业界共同瞩目的焦点。2023年深圳国际论坛,汇聚了来自全球的顶尖科学家、行业精英和创新先锋,将深度聚焦SiC(碳化硅)和GaN(氮化镓)技术的革新、应用及材料研究,诚邀各界翘楚共襄盛举,携手探索第三代半导体的广阔未来。
论坛核心议题:SiC/GaN技术革新
SiC和GaN作为第三代半导体材料的杰出代表,凭借高击穿电场强度、高饱和电子迁移率、高热导率等卓越特性,在电力电子、微波通信、光电子等诸多领域展现出非凡的潜力。本次论坛将深入剖析SiC和GaN技术的最新革新,涵盖但不限于:
应用领域深度探索
除了技术革新,论坛还将从应用视角出发,全面剖析SiC和GaN如何为各行各业注入新活力:
2023深圳国际论坛不仅是一个思想碰撞、成果分享的舞台,更是一个激发创新灵感、引领未来趋势的契机。在这里,您将有机会与全球顶尖的科学家、行业领袖面对面交流,洞悉SiC和GaN技术的最新趋势,共同描绘第三代半导体材料带来的无限可能。我们诚挚邀请您参与这场科技盛宴,携手共创半导体技术的辉煌未来!