2024中国半导体设备年会（时间+地点+门票+参观登记）

2024中国半导体设备年会

　　一、展会全称

　　2024中国半导体设备年会

　　二、展会时间

　　2024年9月25日-9月27日

　　三、参观时间

　　9月25日 9:00～17:30

　　9月26日 9:00～17:30

　　9月27日 9:00～17:30

　　四、展会地点

　　展馆：无锡太湖国际博览中心

　　展厅：8个展馆，5大展区（A1、A3、A4、A5、A6、B1、B3、B6、C1）

　　地址：无锡市太湖新城清舒道88号

       五、展会门票

　    在线预订门票：

         中国半导体设备年会门票预订

         参观人员请联系：canzhan688(微信号)

         参展注意事项：

         由于疫情等不可抗力的存在，组委会可能根据国家政策调整展会的相关进馆信息，请及时获取门票或参观前与客服确认展会信息。

       六、展会简介

　　中国半导体设备年会（CSEAC）是由中国电子专用设备工业协会主办的权威研讨会及展览会，专注于半导体设备与核心部件行业。每年，这一盛会都吸引了大批行业专家和学者，为他们搭建了一个优质的交流平台。在此，众多进入产业化的半导体设备与核心部件创新产品得以向产业链、供应链客商和用户展示。同时，会议还分享国内外最新的半导体设备与核心部件前沿技术，为行业发展提供了宝贵的参考。

      作为我国半导体设备行业权威核心部件的展示会、研讨会，CSEAC不仅是行业发展的风向标，更是全产业生态链深入交流与合作的平台。在这里，北方华创、华海清科、盛美半导体、拓荆科技等龙头企业齐聚一堂，集中展示他们的半导体专用设备。这为打通产业链上下游提供了良好机遇，吸引了大量产业界人士前来参观交流，无疑是一场业界盛会。

       高峰论坛作为国内设备行业权威交流平台，在CSEAC中发挥着重要作用。它聚集了产业界、学术界人士，立足半导体产业现状，展望前沿技术发展。与会者共同探讨中国半导体设备、材料业的未来，从宏观架构到技术难点，全方位展现半导体设备面临的机遇和挑战，为行业的持续发展注入了新的活力。

　　▪ 展品范围

        晶圆制造设备: 晶圆加工设备、光刻设备、热处理设备、干法刻蚀机、湿法刻蚀机，去胶机、离子注入机、薄膜沉积设备、研磨设备、CMP设备、清洗设备、检测设备、电镀设备、晶圆自动传送设备、老化或环境检测设备、显微系统失效分析仪器、光学显微镜、电子扫描显微镜（SEM）、聚焦离子束 (FIB）、透射电子显微镜（TEM）、色谱仪、厚度测量、偏振光椭圆率测量仪、平直度测量仪等；

       半导体核心部件及耗材: EFEM、晶圆传输模块、真空产品、真空泵、真空阀件、管路连接、伺服电机、步进电机、直线轴承、精密轴承、直线导轨、滚珠丝杆、直线马达、气液控制、电源、卡盘、吸盘、研磨盘、切割刀具、陶瓷组建、载具、密封圈、测试座、双频激光测量系统、自动调焦系统、晶片盒、传送腔体、反应腔体、清洗槽、波纹管、转接头、阀座、阀片、过滤器、冷却组件、低温泵、制冷机、压缩机、光学镜头及部件、MFC、石英制品、温控器、传感器、控制柜、电柜、气柜、静电吸盘、喷淋头、流量计、模块化气体输送系统及其他组件，机械手臂、铝锭/不锈钢管道部件、光刻机核心组件、光纤光缆、温度和湿度及气象传感器等；

       封测设备: 晶圆减薄、划片机、封装光刻机、刻蚀机、贴片机、固晶机、键合设备、焊线机、塑封机、测试机、分选机、探针机、裂片机、切筋打弯成型机、植球机、电镀机、薄膜机、键合清洗机、电镀扫描仪、显微镜、显影机、机器视觉、焊接设备、固化设备、烘烤炉等；

       前道材料: 硅片及硅基材料、光掩模板、抛光液和抛光垫、清洗液、高纯化学试剂、显影液、刻蚀液、剥离液体、电子气体、光刻胶及其配套试剂、溅射靶材、化合物半导体等；

       后道材料: 封装基板、引线框架、键合丝、锡球、封装树脂、陶瓷基板、芯片粘合材料、导电胶、绝缘胶、层间介质材料等；

       照相制版设备: 图形发生器、分步重复精缩照相机、掩模版比较仪、掩模版缺陷修复仪、掩模版复印机等；

      其他: 防震基座、减震器、洁净工程、洁净室设备、污染控制设备、化学试剂输送配送设置、水提纯及过滤设备、工业空调、水冷却机、自动控制化系统及软件等；